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离子溅射仪(非磁控)型号:JET3-TZ200

离子溅射仪(非磁控)型号:JET3-TZ200

简要描述:
离子溅射仪(非磁控)型号:JET3-TZ200

技术参数:
1. 玻璃处理室:Φ108mm,高度135mm;
2.试样台尺寸:Φ40mm,可同时放6个样品杯;
3.金靶尺寸:Φ57mm;

产品时间:2023-09-12

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离子溅射仪(非磁控)型号:JET3-TZ200

注明:本型号和市面上的非磁控差不多,没有链条设计的,需要把盖章拿起来放在旁边,再放样品
简介:
此款小型离子溅射仪主要用于扫描电子显微镜样品镀覆导电膜(金膜),仪器操作简单方便,是配合SEM 制样的仪器。设备配有微量充气阀调节工作真空,在 20Pa 真空保护。同时,配有进气口和微量充气调节装置,以方便空气或氩气等工作气体充入。
主要特点:
显示操作面为60°斜面,充分考虑操作的便捷和视觉体验,方便观察操作;
真空泵连接管路为金属波纹管,美观耐用;
微调阀调节灵敏准确,带有刻度标识;
真空泵抽速快,噪音低,适合实验室使用;

离子溅射仪(非磁控)型号:JET3-TZ200

技术参数:
1. 玻璃处理室:Φ108mm,高度135mm;
2.试样台尺寸:Φ40mm,可同时放6个样品杯;
3.金靶尺寸:Φ57mm;
4.真空系统:直联旋片真空泵2L/S;
5.真空检测:定制皮氏计,配合真空指针表,灵敏;
6.真空保护:20pa配有微量充气阀调节工作真空;
7.工作室工作媒介气体:空气或氩气,配有氩气进气口和微量充气节

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