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三氧化二硼硼硅片 型号:ZJ333-PWB2

三氧化二硼硼硅片 型号:ZJ333-PWB2

简要描述:
三氧化二硼硼硅片 型号:ZJ333-PWB2

二 规格与参数
(1)规格
PWB1淡硼 PWB2浓硼
特殊规格 Φ40*1.5mm 特殊规格 Φ40*2.5mm
特殊规格 Φ45*1.5mm 特殊规格 Φ45*2.5mm
2英寸 Φ50*1.5mm 2英寸 Φ50*2.5mm

产品时间:2024-08-27

访问量:1554

厂商性质:生产厂家

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三氧化二硼硼硅片 型号:ZJ333-PWB2

产品名称:三氧化二硼硼硅片
产品型号:PWB2
产品规格:100*4mm
微晶玻璃片状扩散源
使用说明书
一 前言
PWB-硼微晶玻璃片状扩散源是一种的扩散源,它适用于半导体元器件和集成电路的硼扩散工艺,具有稳定性、均匀性,目前已被半导体行业应用。

三氧化二硼硼硅片 型号:ZJ333-PWB2

二 规格与参数
(1)规格
PWB1淡硼 PWB2浓硼
特殊规格 Φ40*1.5mm 特殊规格 Φ40*2.5mm
特殊规格 Φ45*1.5mm 特殊规格 Φ45*2.5mm
2英寸 Φ50*1.5mm 2英寸 Φ50*2.5mm
3英寸 Φ76.2*3mm 3英寸 Φ76.2*3mm
4英寸 Φ100*4mm 4英寸 Φ100*4mm
(2)参数
PWB1淡硼 PWB2浓硼
硼含量 B2O3≥43% B2O3≥45%
膨胀系数 49*10-7+3*10-7/℃(20℃~400℃)
扩散温度 900℃~1050℃
方块电阻 RS≥30Ω/□ RS≥15Ω/□
(根据其他条件不同,RS值可以有所差异)
三 使用说明
(一)源片清洗方法
主要是去-除源片表面所沾染的杂质。有以下两种方法:
(1) A 用丙酮棉花擦洗表面后,在乙醇中漂洗2~3秒;
B 用50℃~60℃的去离子水冲洗1~2分钟;
C 冷去离子水冲洗10~15分钟;
D 用红外灯烘4~5小时。
(2) A 用丙酮与乙醇棉花先后擦洗源片正反两面及四周;
B 用50℃~60℃的去离子水冲洗1~2分钟;
C 冷去离子水冲洗10~15分钟;
D 用红外灯烘4~5小时。
源片的清洗和烘干应连续进行,在红外灯烘干的过程中,如源片出现发黑现象,说明有-机溶剂未冲洗干净,烤源时通少量氧气,即可除-去。
经清洗和烘干以后的源片,即可放入石英管中随炉升温烤源。

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